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高低溫循環(huán)裝置主要應(yīng)用于：高壓反應(yīng)釜、中試生產(chǎn)不銹鋼反應(yīng)釜、雙層玻璃反應(yīng)釜、夾套反應(yīng)釜、微通道反應(yīng)器、反應(yīng)裝置、組合化學等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設(shè)備中，該系列可提供 -80℃~+250℃的溫度控制范圍，特殊可升級高溫至300℃，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應(yīng)試驗。

高低溫循環(huán)系統(tǒng)主要由加熱循環(huán)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、箱體等組成。加熱循環(huán)系統(tǒng)包括循環(huán)泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環(huán)管道等組成。

晶圓生產(chǎn)完成后，需要對其進行各種參數(shù)的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設(shè)備（晶圓測試溫控系統(tǒng)）是高精度，高分辨率，高穩(wěn)定性的控制設(shè)備。

晶圓生產(chǎn)完成后，需要對其進行各種參數(shù)的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設(shè)備（晶圓測試溫控系統(tǒng)）是高精度，高分辨率，高穩(wěn)定性的控制設(shè)備。

PTHC防爆高低溫一體機和高低溫一體循環(huán)機配備人性化7英寸真彩LCD觸摸屏，良好的人機交互界面，直觀顯示本機參數(shù)及外部控溫參數(shù)，智能觸控，操作便捷。

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高低溫循環(huán)器主要應(yīng)用于高壓反應(yīng)釜、中試生產(chǎn)不銹鋼反應(yīng)釜、雙層玻璃反應(yīng)釜、夾套反應(yīng)釜、微通道反應(yīng)器、反應(yīng)裝置、組合化學等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設(shè)備中。